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窒化炭素膜のトライボロジー特性に及ぼす紫外線照射の影響

机译:窒化炭素膜のトライボロジー特性に及ぼす紫外線照射の影響

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摘要

本研究で用いる窒化炭素(Carbon Nitride, CN_x)膜は,炭素ターゲットへのアルゴンイオンビームによるスパッタリングと窒素イオンビーム照射を同時に行うイオンビームミキシング(Ion Beam Assisted Mixing, IBAD)法により成膜される物理蒸着法であり,水素を含まない非晶質薄膜である.このCN_x膜は窒素雰囲気中において相手材料に窒化ケイ素(Si_3N_4)球を用いた場合,摩擦初期は0.2以上の摩擦係数を示すが,数百~数千回の摩擦後に0.01以下の非常に低い摩擦係数を示すことが報告されている物質である.

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