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【24h】

表面波プラズマCVD装置の開発

机译:表面波プラズマCVD装置の開発

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摘要

独自に設計された大面積表面波プラズマ(SWP)源の設計について説明し,さらにプラズマ評価とSWPを利用した低温CVDプロセス開発について報告する。プラズマ評価で,SWPが高密度,低温プラズマであることを実証し,特性データを示す。 SWPを利用したCVDで100℃以下でのシリコン窒化膜プロセスと膜質の特性を示す。

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