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めっきプロセス技術の最前線と展望

机译:めっきプロセス技術の最前線と展望

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摘要

めっきプロセスは金属薄膜の形成手法として古くから用いられてきた.その応用も多岐にわたり,建築構造物や輸送機器などのマクロなものからナノスケールのデバイスまで,また基材表面への機能付与から析出物そのものを機能素子や構造体として用いるものまで,種々な場面で利用されている.本稿ではめっきプロセスの特徴および最近の応用事例,また今後さらなる高機能化·高精度化を実現するためのアプローチについて,特にナノスケールの精密な制御手法を中心に,著者らの研究例も含めいくつか紹介する.

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