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ピコメートルオーダ分解能変位計測技術

机译：ピコメートルオーダ分解能変位計測技術

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精密工学·微細加工·ナノテクノロジが進展している．それにともない加工機の位置決め分解能がナノメートルからサブナノメートルへ，さらには数十ピコメートル程度まで減少しようとしている．例えば極端紫外光（EUV光：波長13.5nm）を光源とする半導体露光装置では，その波長ゆえに透過光学レンズ系を投影露光系に用いることができず，すべて反射ミラーで構成する必要があり，その形状不確かさはサブナノメートル以下が必須であるまた，大口径の露光エリアと高開口数を確保するには，ミラーの大きさがメートル近くなる．このような反射ミラーの加工にはメートルオーダの測定範囲とピコメートルオーダの変位分解能をもつ位置決め技術が必要となる．すなわち，ピコメートルオーダ分解能をもつ変位計測技術が必要となる．本解説記事では，ピコメートルオーダ分解能変位計測技術の著者の知る限りの現状報告を行う．

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