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ASPE 32nd Annual Meeting (ASPE2017)報告

机译:ASPE 32nd Annual Meeting (ASPE2017)報告

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摘要

今回で32回目を迎えた国際会議であるASPE2017 (American Society for Precision Engineering)力s 2017 年 10月29日から11月3日^)日程で,アメリカ合衆国-ノ ースカロライナ州シャーロッ卜のthe Westin Hotel Charlotteにおいて開催された.会期の初めにTutorials が2日間あり,11月30日夕刻より,“Precision Mechanics and Mechatronics in ASML Lithography Equipment: Key Drivers for the Continuation of Moore's Law for Semiconductor Devices と題して Keynote Address力巧ラわれた.

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