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【24h】

Metallic adhesion and tunnelling at the atomic scale

机译：原子尺度上的金属粘附和隧穿

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We simultaneously measured the distance dependence of the force and thetunnelling current between a W(111) tip and a Au(111) sample in an ultrahighvacuum atT= 150 K. The tip was characterized by field ion microscopy. Evenat atomically close contact no evidence of structural instabilities was found.The scaling of the force curves show an unexpectedly long distance scalingparameter of= 0.2 nm. We conclude that not only the apex atomscontribute to the adhesion forces, but the first three layers play an almostequal role. Using a model that correlates the force and the tunnellingcurrent, we are able to extract the tip density of states. Possible reasonsfor the long scaling length are discussed.
机译：我们同时测量了 W（111） 尖端和 Au（111） 样品在超高真空 atT= 150 K 中的距离依赖性。通过场离子显微镜对尖端进行表征。即使在原子紧密接触时，也没有发现结构不稳定的证据。力曲线的缩放显示了一个出乎意料的长距离缩放参数 = 0.2 nm。我们得出的结论是，不仅顶点原子对粘附力有贡献，而且前三层起着几乎相等的作用。使用将力和隧穿电流相关联的模型，我们能够提取状态的尖端密度。讨论了缩放长度过长的可能原因。

著录项

  • 来源
    《New journal of physics》 |2000年第1期|29-29|共页
  • 作者

    A Schirmeisen; G Cross; A StalderP GrütterU Dürig;

  • 作者单位

    Center for the Physics of Materials,Department of Physics,McGill University,Montréal, Canada;

    IBM Research Division,Zurich Research Laboratory,CH-8803 Rüschlikon, Switzerland;

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  • 正文语种 英语
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