フラッシュ現象を利用した正方晶ジルコニア（8Y-CSZ）の微視き裂の修復

内藤楓貴; 森田孝治; 寺田大将

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フラッシュ現象を利用した正方晶ジルコニア（8Y-CSZ）の微視き裂の修復

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近年，セラミックス材料に高電界を印加すると様々な高温現象が低温化，あるいは加速されることが報告されている．その大きなきっかけになったのは，2010年にコロラド大学のRajらによって報告されたフラッシュ焼結である．Rajらは，部分安定化ジルコニア粉末の圧粉体を焼結する際，圧粉体にある臨界値以上の高電圧を印加しながら昇温すると，ある温度で急激な電流量の増加にともないフラッシュ現象と呼ばれる発光現象が発現することを見出した．このフラッシュ現象が発現すると，ジルコニア圧粉体は一般的な焼結温度より数百度低温において，しかも数秒で焼結が完了する．強電界下におけるこの新規な現象は，フラッシュ焼結として広く研究されてきた．現在では，このフラッシュ現象は焼結以外にも変形や接合などの高温現象を低温化，あるいは加速させる促進効果があることが確認されている．これらの促進効果は，フラッシュ現象により拡散現象が促進されることが一因であると考えられている．フラッシュ現象により拡散現象が促進されれば，セラミックスの機械特性を左右する微視き裂の修復にも有効であることが期待された．

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来源
《日本金属学会志》 |2022年第2期|23-29|共7页
作者
内藤楓貴; 森田孝治; 寺田大将;
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作者单位

国立研究開発法人物質·材料研究機構機能性材料研究拠点;

千葉工業大学工学部先端材料工学科;

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收录信息
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正文语种日语
中图分类金属学（物理冶金）;冶金工业;
关键词

フラッシュ現象を利用した正方晶ジルコニア（8Y-CSZ）の微視き裂の修復

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