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Nordiko社のイオンビーム技術を導入し，Si薄膜成膜プロセスモジュール，ならびにエッチングプロセスモジュールを開発した。 各モジュールは島津製作所のDLC（Diamond-like Carbon）成膜用ECR-CVD（Electron Cyclotron Resonance-Chemical Vapor Deposition）モジュールと組み合わせてクラスターツール方式の薄膜製造装置となった。 本装置は次世代GMR（Giant Magnetoresistance）ヘッド用保護膜形成プロセス開発に適用が計画されている。
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著录项
来源
《島津評論》
|
2001年第2期
|
53-58
|
共6页
作者
下里義博;
岡田繁信;
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作者单位
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收录信息
原文格式
PDF
正文语种
日语
中图分类
机械、仪表工业;
关键词
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