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【24h】

Planarization for three-dimensional photonic crystals and other multi-level nanoscale structures

机译：三维光子晶体和其他多层纳米结构的平面化

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We describe an approach for achieving local as well as global planarization in the fabrication of multi-level nanoscale structures. Using a 'pre-fill-in' technique, where trenches are filled with SiO_2 prior to the application of a planarizing liquid, we demonstrate that the global degree of planarization can be improved from a mere approx 25 percent to over approx 90 percent. The first layer of a woodpile photonic lattice with a period of approx 0.5 mum and a minimum feature size of approx 0.2 mu m is used as an example structure to illustrate the issues involved in planarization. This method provides an attractive and simpler alternative to the traditional chemical mechanical polishing approach, which can be quite complicated at nanoscale features involving non-traditional materials.
机译：我们描述了一种在多层纳米结构的制造中实现局部以及整体平面化的方法。使用“预填充”技术，其中在使用平面化液体之前先用SiO_2填充沟槽，我们证明整体平面化程度可以从仅约25％改善到约90％以上。周期约为0.5微米，最小特征尺寸约为0.2微米的柴堆光子晶格的第一层用作示例结构，以说明涉及平面化的问题。该方法为传统化学机械抛光方法提供了一种有吸引力且更简单的替代方法，该方法在涉及非传统材料的纳米级特征上可能非常复杂。

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