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高アスプクト比フォトレジストを用いた厚膜平面らせん型マイクロ電磁気距離センサの開発

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摘要

新しいマイクロ電磁気距離センサの作製法を提案し,種々の実験を行った結果,以下の結論を得た。 (1)ニッケルの300μm厚さ,および直径3000μmの平面マイクロコイルを,高アスペクト比フォトレジストSU-8およびニッケル電気めっき法を使用することにより製作できた。 (2)開発したマイクロコイルは,インダクタンス/抵抗の比が従来のコイルに比べて,0.894倍と同程度であり,抵抗は1/176倍と小さくできた。 (3)ステンレス鋼に対して,開発した平面マイクロコイルは距離センサとして高感度(1.7V/mm),高S/N(75.6dB)及び0~1mmの範囲で良好な線形特性を有している。 (4)ステンレス鋼に対して,マイクロ電磁気距離センサはOHzから1500Hz(-3dB)の広いバンド幅を持っている。(5)ステンレス鋼に対して,閉ループ位置制御実験によりマイクロ電磁気距離センサは位置の追従制御に有用であることがわかった。

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