Organometallic compounds; Vapor deposition; Argon; Auger electron spectroscopy; Chemical reactions; Cleaning; Deposition; Films; Gases; Heat; Hydrocarbons; Hydrogen; Impurities; Low level; Low temperature; Melting point; Metal complexes; Oxygen; Platinum; Precursors; Puri;
机译:SrTiO_3种子层沉积时间和沉积厚度对金属有机化学气相沉积Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的低温结晶和电性能的影响
机译:金属氯化物还原化学气相沉积法低温制备280℃的硅化镍金属氧化物半导体电容器
机译:Al_2O_3的低温金属有机化学气相沉积,用于先进的互补金属氧化物半导体栅极介电应用
机译:有机金属化学气相沉积法在碳纳米管上可控合成催化应用的金属纳米粒子
机译:新型电子材料的研究:高温超导薄膜的有机金属化学气相沉积以及酞菁分子金属的合成与表征
机译:低温生长条件下共沉积双金属催化剂上等离子增强乙炔的化学气相沉积增加石墨烯片的连续性
机译:通过使用催化添加剂对由有机金属化合物的化学气相沉积进行高强度钢制成的物品上的铝涂层沉积
机译:过渡金属碳化物的有机金属化学气相沉积:使用均配烷基