机译:第一部分:位错和取向对银表面电气双层容量的影响第二部分:1963年3月1日最终报告的补充:表面处理和位错对银催化分解的影响
机译:通过原位单步技术由银(I)配合物和PMDA / ODA制备反射性和导电性表面镀银的聚酰亚胺薄膜
机译:通过在层状双氢氧化物层间表面中还原银硫醇通过减少银硫醇盐来制备超薄银纳芯的容易合成途径
机译:通过使用银氨络合物阳离子作为前体的直接离子交换自金属化技术在聚酰亚胺膜上控制形成光学反射和导电的镀银表面
机译:在银色表面上的银色簇沉积:对电阻的影响
机译:通过原子层沉积制备银催化剂以及使用Operando表面增强拉曼光谱研究原子层沉积反应。
机译:在柠檬酸盐阴离子层表面上的氧化银纳米颗粒的控制生长嵌入层状双氢氧化物
机译:银 - 电沉积物中电双层与表面形态的差异差异相关性的相关性。
机译:X射线双晶衍射仪测定应力腐蚀开裂中表层和体积的过量位错密度。