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【2h】

Precise Measurement of the Surface Shape of Silicon Wafer by Using a New Phase-Shifting Algorithm and Wavelength-Tuning Interferometer

机译：通过使用新的相移算法和波长调谐干涉仪精确测量硅晶片的表面形状

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In wavelength-tuning interferometry, the surface profile of the optical component is a key evaluation index. However, the systematic errors caused by the coupling error between the higher harmonics and phase shift error are considerable. In this research, a new 10N − 9 phase-shifting algorithm comprising a new polynomial window function and a DFT is developed. A new polynomial window function is developed based on characteristic polynomial theory. The characteristic of the new 10N − 9 algorithm is represented in the frequency domain by Fourier description. The phase error of the new algorithm is also discussed and compared with other phase-shifting algorithms. The surface profile of a silicon wafer was measured by using the 10N − 9 algorithm and a wavelength-tuning interferometer. The repeatability measurement error across 20 experiments was 2.045 nm, which indicates that the new 10N − 9 algorithm outperforms the conventional phase-shifting algorithm.
机译：在波长调谐干涉法中，光学组件的表面轮廓是关键评估指标。然而，由较高谐波和相移误差之间的耦合误差引起的系统误差是相当大的。在该研究中，开发了一种新的10N - 9相移算法，包括新多项式窗口函数和DFT。基于特征多项式理论开发了一种新的多项式窗口功能。通过傅立叶描述在频域中表示新的10N - 9算法的特性。还讨论了新算法的相位误差并与其他相移算法进行了比较。通过使用10N - 9算法和波长调谐干涉仪测量硅晶片的表面轮廓。 20实验中的可重复性测量误差为2.045nm，表示新的10n-9算法优于传统的相移算法。

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