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【2h】

Photolithography of Thick Photoresist Coating in Anisotropically Etched V-grooves for Electrically Controlled Liquid Crystal Photonic Bandgap Fiber Devices

机译:用于电控液晶光子带隙纤维装置的各向异性蚀刻V沟槽中厚光致抗蚀剂涂层的光刻法

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摘要

Thick photoresist coating for electrode patterning in anisotropically etched v-grooves is investigated. The photoresist coverage is compared with and without soft baking. Two-step exposure is applied for a complete exposure and minimizing the resolution loss.
机译:研究了用于各向异性刻蚀v型槽中电极构图的厚光致抗蚀剂涂层。比较有无软烘烤的光致抗蚀剂覆盖率。采用两步曝光可实现完整曝光并最大程度地降低分辨率损失。

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