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Deep UV hardening of photoresist for shaping of graphene and lift-off fabrication of back-gated field effect biosensors by ion-milling and sputter deposition

机译:用于光刻胶成型的光致抗蚀剂的深紫外硬化,以及通过离子铣削和溅射沉积剥离制备背栅场效应生物传感器

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摘要

publisher: Elsevier articletitle: Deep UV hardening of photoresist for shaping of graphene and lift-off fabrication of back-gated field effect biosensors by ion-milling and sputter deposition journaltitle: Carbon articlelink: http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2017.03.032 content_type: article copyright: © 2017 The Authors. Published by Elsevier Ltd.
机译:出版商:Elsevier文章标题:用于光刻胶的光致抗蚀剂的深层紫外线固化,以及通过离子铣削和溅射沉积剥离制造背栅场效应生物传感器的期刊标题:碳文章链接:http://dx.doi.org/10.1016/ j.carbon.2017.03.032 content_type:文章版权:©2017作者。由Elsevier Ltd.发布

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