机译:离子束辅助气相沉积法模拟沉积在弯曲基板上的立方氮化硼膜厚度分布的方法
机译:化学气相沉积法沉积立方氮化硼薄膜阴极发光的形态学依赖性
机译:化学气相沉积法沉积立方氮化硼薄膜的热稳定性
机译:直流射流等离子体化学气相沉积法在碳化钨衬底上生长立方氮化硼膜
机译:在室温下通过脉冲等离子体增强化学气相沉积来沉积结晶良好的立方氮化硼薄膜
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:立方硼氮化物薄膜的气相沉积。
机译:环境条件对立方氮化硼薄膜在硅衬底上粘附性的影响