首页> 外文OA文献 >Isochronal annealing studies of n-type 6H-SiC with positron lifetime spectroscopy
【2h】

Isochronal annealing studies of n-type 6H-SiC with positron lifetime spectroscopy

机译:用正电子寿命谱研究n型6H-siC的等时退火研究

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

n-type 6H silicon carbide has been studied using positron lifetime spectroscopy with isochronal annealing temperatures of 400, 650, 900, 1200, and 1400 °C. In the as-grown sample, we have identified the VSi vacancy, the VCVSi divacancy, and probably the VC vacancy. The silicon vacancy and the carbon vacancy were found to anneal out in the temperature range 400-650 °C. The VCVSi divacancy was found to persist at an annealing temperature of 1400 °C.
机译:已使用正电子寿命光谱研究了等温退火温度为400、650、900、1200和1400°C的n型6H碳化硅。在成长的样本中,我们确定了VSi空位,VCVSi空位以及可能的VC空位。发现硅空位和碳空位在400-650℃的温度范围内退火。发现VCVSi空位在1400℃的退火温度下持续。

著录项

  • 作者

    Fung S; Beling CD; Ling CC;

  • 作者单位
  • 年度 2000
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号