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图案形成方法、电子束敏感或极紫外线敏感组合物、抗蚀剂膜、使用其制造电子器件的方法和电子器件

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提供一种图案形成方法，所述方法包括(1)通过使用电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物形成膜的步骤，(2)通过使用电子束或极紫外线射线将所述膜曝光的步骤；和(3)通过使用包含有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影的步骤，其中所述电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物包含：(A)树脂，所述树脂包含(R)具有能够在用电子束或极紫外线射线照射时分解以产生酸的结构部分的重复单元；以及(B)溶剂。

著录项

公开/公告号CN103827751A

专利类型发明专利
公开/公告日2014-05-28

原文格式PDF
申请/专利权人富士胶片株式会社;
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申请/专利号CN201280047789.5
发明设计人泷泽裕雄;岩户薰;椿英明;
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申请日2012-09-14
分类号G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王铁军
地址日本国东京都
入库时间 2023-12-17 00:06:05

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-04-26

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/038 申请公布日:20140528 申请日:20120914

发明专利申请公布后的视为撤回
2014-07-30

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/038 申请日:20120914

实质审查的生效
2014-05-28

公开

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专利
中文文献
外文文献

1. 图案形成方法、电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、使用其的电子器件的制造方法和电子器件 [P] . 中国专利： CN103827750B . 2016.11.23
2. 图案形成方法、电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、使用其的电子器件的制造方法和电子器件 [P] . 中国专利： CN103827750A . 2014-05-28
3. Pattern forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet-sensitive composition, resist film, method for manufacturing electronic device using the same, and electronic device [P] . 美国专利： US9411230B2 . 2016-08-09

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4. Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device [P] . 美国专利： US9470980B2 . 2016-10-18

机译：图案形成方法，对电子束敏感或对极紫外辐射敏感的树脂组合物，抗蚀剂膜，使用它们的电子器件的制造方法和电子器件
5. Pattern-forming method, electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device using them and electronic device [P] . 美国专利： US9170489B2 . 2015-10-27

机译：图案形成方法，对电子束敏感或对极紫外辐射敏感的树脂组合物，抗蚀剂膜，使用它们的电子器件的制造方法和电子器件