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用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物

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本发明涉及用于光致抗蚀剂组合物的交联剂,该光致抗蚀剂组合物适用于使用KrF(248nm),ArF(193nm),电子束,离子束或EUV光源的照相平板印刷法中。按照本发明,优选的交联剂含有(i)由下列化学分子式1表示的化合物和/或(ii)选自由丙烯酸,甲基丙烯酸和马来酸酐所组成的组中的一种或多种化合物的一种共聚物。

著录项

公开/公告号CN1255652A

专利类型发明专利
公开/公告日2000-06-07

原文格式PDF
申请/专利权人现代电子产业株式会社;
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申请/专利号CN99125856.8
发明设计人郑载吕;孙根圭;金明洙;金亨基;金炯秀;白基镐;金珍秀;
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申请日1999-11-26
分类号G03F7/00;
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人丁业平
地址韩国京畿道
入库时间 2023-12-17 13:37:56

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-02-02

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/00 授权公告日:20040825 终止日期:20091228 申请日:19991126

专利权的终止
2004-08-25

授权

授权
2002-02-20

实质审查的生效

实质审查的生效
2000-06-07

公开

公开

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