法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-11
授权
授权
2016-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B12/06 申请日:20140828
实质审查的生效
2016-06-22
公开
公开
机译: 超导体基质制造方法,超导体制造方法,超导体基质和超导体
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机译: 形成用于氧化物超导体的取向层下层的方法,用于制造具有氧化物超导体的取向层的基板的方法,具有用于氧化物超导体的取向层的基板和用于氧化物超导体的取向层下层的沉积设备