首页> 中国专利> 集成电路方法以及集成电路设计系统

集成电路方法以及集成电路设计系统

页面导航

摘要

本发明提供一集成电路方法以及集成电路设计系统。该集成电路方法包括：接收一集成电路布局文件；以及对集成电路布局文件执行一逆电子束技术工艺以产生一最终掩膜图案，其中逆电子束技术工艺使用一单一逆电子束技术模型以模拟一掩膜产生工艺以及晶圆产生工艺。

1. 集成电路设计制造方法以及集成电路设计系统 [P] . 中国专利： CN106469235B . 2020.10.23
2. 半导体集成电路及设计半导体集成电路的方法和设计系统 [P] . 中国专利： CN100338760C . 2007.09.19
3. Semiconductor integrated circuit design method, semiconductor integrated circuit design system, and semiconductor integrated circuit manufacturing method [P] . 日本专利： JP4768251B2 . 2011-09-07

机译：半导体集成电路设计方法，半导体集成电路设计系统和半导体集成电路制造方法
4. DESIGNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, DESIGNING SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DESIGNED BY THE DESIGNING METHOD [P] . 日本专利： JP2010034472A . 2010-02-12

机译：半导体集成电路的设计方法，半导体集成电路的设计系统以及通过该设计方法设计的半导体集成电路
5. Integrated Circuit Design Meethod, Design Assistance Program and Integrated Circuit Design System Using Such Integrated Circuit Design Method [P] . 美国专利： US2007266365A1 . 2007-11-15

机译：使用这种集成电路设计方法的集成电路设计方法，设计辅助程序和集成电路设计系统