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制造用于光刻设备的表膜的方法、用于光刻设备的表膜、光刻设备、器件制造方法、用于处理表膜的设备和用于处理表膜的方法

摘要

披露了制造用于光刻设备的表膜的方法。在一种配置中,该方法包括将至少一个石墨烯层(2)沉积在衬底(6)的平坦表面(4)上。该衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分(12)。该方法还包括移除第一衬底部分,以便由所述至少一个石墨烯层形成独立隔膜(14)。该独立隔膜由第二衬底部分支撑。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20161011

    实质审查的生效

  • 2018-08-21

    公开

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