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应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统

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摘要

本发明公开了一种应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统，应用于光学成像系统的视场控制装置包括：基体，所述基体可透光；多个遮光部，多个所述遮光部均设于所述基体且相互平行，多个所述遮光部在所述基体的第一方向依次设置，且多个所述遮光部中至少相邻的两个所述遮光部间隔开以在相邻两个所述遮光部间形成透光区。由此，通过基体和多个遮光部配合，可以减少光学成像系统的视场角大小，从而可以抑制光学成像系统中浮空实像两侧残像的产生，能够提高用户的观看体验。

著录项

  • 公开/公告号CN114637127A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 安徽省东超科技有限公司;

    申请/专利号CN202210173698.1

  • 发明设计人 张亮亮;韩东成;范超;

    申请日2022-02-24

  • 分类号G02B30/56;

  • 代理机构北京知帆远景知识产权代理有限公司;

  • 代理人崔建锋

  • 地址 230088 安徽省合肥市高新区望江西路900号创谷科技园A3栋1层

  • 入库时间 2023-06-19 15:41:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-17

    公开

    发明专利申请公布

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