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套刻误差测量的装置和不对称性校准的方法

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摘要

本发明提供了一种套刻误差测量的装置，包括光源模块、中继镜组、分束镜、物镜、探测器和处理模块，光源模块提供测量光斑，中继镜组接收并中继所述测量光斑，中继镜组的共轭面设有一用于调节所述测量光斑的尺寸的可变视场光阑；分束镜用于反射中继后的测量光斑；物镜用于将中继后的测量光斑投射至一基底上的套刻标记上，并被所述套刻标记反射形成衍射光；探测器所述衍射光再次穿过所述物镜达到所述探测器，所述探测器获取所述衍射光的光强并生成测量信号；处理模块用于根据所述测量信号获取参考信号。解决套刻标记的位置发生变动后导致光强分布发生变化而影响测量精度的问题。相应的，本发明还提供了一种套刻误差测量的不对称性校准的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN114690585A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN202011643765.9

  • 发明设计人 郑振飞;管小飞;

    申请日2020-12-31

  • 分类号G03F7/20;G03F9/00;

  • 代理机构上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2023-06-19 15:50:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-01

    公开

    发明专利申请公布

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