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衬底支撑装置、光刻设备、用于操纵电荷分布的方法以及用于制备衬底的方法

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衬底支撑装置被配置为支撑衬底。衬底支撑装置包括从衬底支撑装置的基表面突出的多个突节。突节具有处于用于支撑衬底的下表面的平面中的远端部，在衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间具有间隙。衬底支撑装置包括液体供应通道，该液体供应通道用于向间隙供应传导性液体，以便将衬底支撑装置的基表面与衬底的下表面之间的间隙进行桥接，由此允许电荷在衬底支撑装置与衬底之间通过。衬底支撑装置具有受控电势，使得在衬底的下表面处的电荷分布能够被操纵。

著录项

公开/公告号CN114730135A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-07-08

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
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申请/专利号CN202080079302.6
发明设计人 K·G·温克尔斯;L·H·J·史蒂文斯;D·D·范德沃特;G·A·L·林克奈特;N·坦卡特;D·W·哈伯特;R·A·C·M·比伦斯;E·J·C·伯斯;
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申请日2020-10-16
分类号G03F7/20;
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人赵林琳
地址荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 15:55:34

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2022-07-08

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