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一种利用界面分层原理的电化学镀膜装置

摘要

本发明公开了一种利用界面分层原理的电化学镀膜装置,包括:安装架、上电解池和下电解池;下电解池设置在安装架上,顶部开口,底部封闭,侧壁上开设有连通内部和外部的第一下通孔、第一上通孔和两个第一电极安装通孔;上电解池顶部和底部连通,顶部设置有上盖,底部与镀膜基底接触,侧壁上开设有连通内部和外部的第二下通孔和第二上通孔;上盖开设有两个第二电极安装通孔和注液通孔。本发明的镀膜基底设置在下电解池和上电解池之间,镀膜基底中间部分位于电解池中,边缘部分位于电解池外部,因此,可以将多个镀膜电极均匀布置连接在镀膜基底的边缘部分,从而使镀膜基底的电势均匀性更佳,镀膜厚度更加均匀。此外,本发明的镀膜装置通用性较强。

著录项

  • 公开/公告号CN115110137A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军火箭军工程大学;

    申请/专利号CN202210674643.9

  • 申请日2022-06-15

  • 分类号C25D17/02;C25D17/08;C25D21/02;

  • 代理机构西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王海栋

  • 地址 710025 陕西省西安市灞桥区同心路2号

  • 入库时间 2023-06-19 16:59:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-27

    公开

    发明专利申请公布

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