公开/公告号CN115803479A
专利类型发明专利
公开/公告日2023-03-14
原文格式PDF
申请/专利权人 德国艾托特克有限两合公司;
申请/专利号CN202180048786.2
申请日2021-12-10
分类号C25D3/06;
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人林斯凯
地址 德国柏林
入库时间 2023-06-19 18:49:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-14
公开
国际专利申请公布
机译: 在金属衬底上直接电沉积铬层的方法以及包括覆盖有这种电沉积铬层的金属衬底的光刻片。
机译: 在金属基板上电沉积铬层的方法,电沉积的铬层以及包括覆盖有这种电沉积的铬层的金属基板的光刻片
机译: “电镀浴,电镀深色铬层,深色铬层和工件的方法”