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一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备

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本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备，包括真空室本体、设置在真空室本体内顶部的加热源、设置在真空室本体底部的底座以及设置在真空室本体一侧表面的密封门；所述真空室本体内底部设置载料组件，所述载料组件底部设置传动组件，所述传动组件底部设置平移组件，所述平移组件包括调节丝杆，所述调节丝杆转动设置在凹槽内，所述凹槽开设在底座内下侧面上，所述调节丝杆上设置丝母，所述丝母一端与载台连接，所述载台一端与传动组件连接，所述调节丝杆一端与位于底座一侧表面的第一电机的驱动轴连接，本实用新型能够对基片进行快速移出以及顶升，便于基片的取放，且受热均匀，镀膜厚度均匀。

著录项

公开/公告号CN217499396U

专利类型实用新型
公开/公告日2022-09-27

原文格式PDF
申请/专利权人江西光腾微纳材料有限公司;
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申请/专利号CN202220686368.8
发明设计人吕清水;
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申请日2022-03-28
分类号C23C14/50;C23C14/56;C23C14/24;
代理机构宁波海曙甬睿专利代理事务所(普通合伙);
代理人范翠英
地址 333199 江西省上饶市鄱阳县工业园区芦田轻工产业基地联南路电镀集控区24号标准厂房
入库时间 2022-11-28 18:12:55

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法律状态
2022-09-27

授权

实用新型专利权授予

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