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可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统

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本实用新型公开了一种可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统，包括原液桶、碱性化学剂桶、纯水桶、流量调节组件和控制器，所述原液桶至少包括原液桶一、原液桶二和原液桶三，所述原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶均通过流量调节组件将液体输送到抛光盘上，所述控制器用于控制流量调节组件内部液体的流量比例，以配置出不同配比的成分组成的不同种类的抛光液。本实用新型可调配出多种不同种类的抛光液，亦可实时更改抛光液浓度或配比，使硅片抛光加工过程更加灵活和高效；无需配备多套供液系统，能够有效地降低企业的生产成本，提高企业的经济效益。

著录项

公开/公告号CN218194602U

专利类型实用新型
公开/公告日2023-01-03

原文格式PDF
申请/专利权人徐州鑫晶半导体科技有限公司;
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申请/专利号CN202221509860.4
发明设计人周诗;王慧;李兆颖;周来平;
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申请日2022-06-16
分类号B24B57/02;F17D3/01;F17D1/14;
代理机构
代理人
地址 221000 江苏省徐州市金山桥开发区鑫芯路1号
入库时间 2023-01-12 18:57:35

法律信息

法律状态公告日

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法律状态
2023-01-03

授权

实用新型专利权授予

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