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电荷粒子束照射系统

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本发明提供一种能够缩短电荷粒子束向照射对象的照射时间的电荷粒子束照射系统。具备：电荷粒子束产生装置，其加速地射出电荷粒子束；照射装置，其具有扫描电荷粒子束的扫描电磁铁，向照射对象的多个照射点射出加速后的电荷粒子束；射束射线量测量器，其求出通过照射装置内的电荷粒子束的射线量；射束位置测量器，其求出通过扫描电磁铁扫描的电荷粒子束的位置和宽度的任意一方或双方。

著录项

公开/公告号CN104941076B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-30

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社日立制作所;
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申请/专利号CN201510085293.2
发明设计人伊藤友纪;松田浩二;品川亮介;田所昌宏;西村荒雄;
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申请日2015-02-16
分类号
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;
代理人曾贤伟
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 10:08:57

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-03-30

授权

授权
2015-11-04

实质审查的生效 IPC(主分类):A61N5/10 申请日:20150216

实质审查的生效
2015-09-30

公开

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