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基于双重连续印迹体系制备仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜的制备方法及其用途

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本发明属功能材料制备技术领域，涉及一种基于双重连续印迹体系制备仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜的制备方法；步骤为：首先合成UiO‑66颗粒，利用多巴胺自聚‑复合印迹技术，以四环素为模板分子，制备聚多巴胺基印迹UiO‑66，并将其用作膜负载材料，结合相转化手段制备UiO‑66基纳米复合印迹膜；最后以四环素为模板分子，氨丙基三乙氧基硅烷和正硅酸四乙酯为功能单体和交联剂，基于溶胶凝胶印迹方法，制备得到仿生MOFs基双层分子印迹纳米复合膜；本发明制备的复合膜解决了现有四环素分子印迹聚合物所存在的难回收、易产生二次污染等不足，并拓宽膜分离材料的应用领域。

著录项

公开/公告号CN113398776B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-22

原文格式PDF
申请/专利权人江苏大学;
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申请/专利号CN202110610673.9
发明设计人吴易霖;严铭;吕鹏;刘馨琳;林榕鑫;马发光;
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申请日2021-06-01
分类号B01D69/12(20060101);B01D67/00(20060101);B01J20/26(20060101);B01J20/28(20060101);B01J20/30(20060101);C02F1/44(20060101);C02F1/28(20060101);C08G83/00(20060101);C08G73/06(20060101);C02F101/30(20060101);
代理机构
代理人
地址 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号
入库时间 2022-08-23 13:17:59

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2022-03-22

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