首页> 中国专利> 一种基于曲率和浸入深度的磁流变抛光去除函数演绎方法

一种基于曲率和浸入深度的磁流变抛光去除函数演绎方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明公开了一种磁流变抛光去除函数演绎方法，包括步骤：在给定的工艺参数条件下，在不同曲率的球面镜上分别采集不同浸深的抛光斑，获取实验去除函数；利用基于Bezier样条的磁流变抛光去除函数参数化模型及粒子群优化算法计算各去除函数对应的形态系数；建立不同曲率和浸深下的去除函数形态系数相对于基准斑形态系数的对应关系，得到去除函数的标准化形态系数；建立磁流变抛光去除函数关于曲率和浸深的变化规律函数；根据去除函数形态系数变化规律函数，构建曲率效应下磁流变抛光去除函数反求演绎模型，求解曲率和浸深对应的去除函数。本发明解决了当前磁流变抛光曲率效应下去除函数模型误差大、获取成本高、效率低的问题。

著录项

公开/公告号CN112329167B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-06-17

原文格式PDF
申请/专利权人中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
展开▼

申请/专利号CN202011203718.2
发明设计人樊炜;张林;黄文;张云飞;刘军;周涛;李凯隆;郑永成;陈立;田东;张建飞;
展开▼

申请日2020-11-02
分类号G06F30/17;G06F30/25;G06F30/27;B24B1/00;
代理机构成都行之专利代理事务所(普通合伙);
代理人胡晓丽
地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号
入库时间 2022-08-23 13:51:56

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2022-06-17

授权

发明专利权授予

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 一种基于曲率和浸入深度的磁流变抛光去除函数演绎方法 [P] . 中国专利： CN112329167A . 2021-02-05
2. 一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置 [P] . 中国专利： CN110245317B . 2022.03.15
3. 一种基于变分自编码器的训练样本数据扩充方法、存储介质及计算机设备 [P] . 世界知识产权组织专利： WO2020/143321A1 . 2020.07.16
4. 一种基于动态视觉传感器的角点检测方法 [P] . 世界知识产权组织专利： WO2020/143499A1 . 2020.07.16
5. 一种基于集成学习的工业控制系统入侵检测方法 [P] . 世界知识产权组织专利： WO2020/143226A1 . 2020.07.16