法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01G 29/00 授权公告日:20101124 终止日期:20181210 申请日:20071210
专利权的终止
2014-06-04
专利权的转移 IPC(主分类):C01G29/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20140506 申请日:20071210
专利申请权、专利权的转移
2014-06-04
专利权的转移 IPC(主分类):C01G 29/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20140506 申请日:20071210
专利申请权、专利权的转移
2012-01-18
专利权的转移 IPC(主分类):C01G29/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20111207 申请日:20071210
专利申请权、专利权的转移
2012-01-18
专利权的转移 IPC(主分类):C01G 29/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20111207 申请日:20071210
专利申请权、专利权的转移
2010-11-24
授权
授权
2010-11-24
授权
授权
2008-07-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-07-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-05-28
公开
公开
2008-05-28
公开
公开
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机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法