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METHOD AND DEVICE FOR CHECKING MASKS FOR MICROLITHOGRAPHY

机译:显微照相术检查面膜的方法和装置

摘要

The present invention relates to a method for checking masks for microlithography, in which an aerial image of at least part of the mask is generated and captured by a detection device and compared with a reference image, the comparison of the captured aerial image and reference image by comparing image information along At least one comparison line (6) takes place in the aerial image and reference image, the comparison line (6) running essentially perpendicular to at least one boundary line (4, 5) of a structural element (3) of the mask.
机译:用于检查微光刻的掩模的方法技术领域本发明涉及一种用于微光刻的掩模的检查方法,其中,掩模的至少一部分的空间图像由检测装置生成并捕获,并且与参考图像进行比较,将捕获的空间图像与参考图像进行比较。通过沿航空图像和参考图像中的至少一条比较线(6)比较图像信息,比较线(6)基本垂直于结构元件(3)的至少一条边界线(4、5)延伸面具

著录项

  • 公开/公告号DE102019218517A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARL ZEISS SMT GMBH;

    申请/专利号DE102019218517A1

  • 发明设计人 THOMAS ZEUNER;JAN TUSCH;CARSTEN SCHMIDT;

    申请日2019-11-29

  • 分类号G03F1/84;G03F1/20;G01M11;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 11:01:06

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