机译:制造包含西格列汀立即释放层的配方的方法,用该方法制造的制剂,涂覆西格列汀立即释放层的方法以及涂覆西格列汀立即释放层的组合物
公开/公告号KR20200021774A
专利类型
公开/公告日2020-03-02
原文格式PDF
申请/专利权人 DAE HWA PHARMA. CO. LTD.;
申请/专利号KR20180097553
发明设计人 YANG JAE GWON;CHU SEUNG NAM;JANG JI SUN;KIM SEO HYUN;HYUN USOK;KANG MIN KWON;KIM GA HYEON;SONG YOUNG KYUNG;KIM YE SEUL;
申请日2018-08-21
分类号A61K9/24;A61K9/28;A61K9/50;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 11:07:47