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塗布液、当該塗布液を用いたインクジェット用インク、封止膜及び封止膜の形成方法

机译:涂布液,使用该涂布液的喷墨用墨水,密封膜及形成该密封膜的方法

摘要

【課題】本発明の課題は、低酸素・低湿度下の系内で、連続してポリシラザンにより直接封止するプロセスにおいて、高い耐酸化性を有し、かつ、デシカント機能を有する封止膜を形成し、有機EL素子のダークスポットを抑制できる塗布液、当該塗布液を用いたインクジェット用インク、封止膜及び封止膜の形成方法を提供することである。【解決手段】本発明の塗布液は、ポリシラザンを含有する塗布液であって、前記ポリシラザンと、前記ポリシラザンの一部に酸素原子が導入され、シリコン(Si)原子に対する酸素(O)原子の原子組成比の値(O/Si)が、0.01~1の範囲内である酸化ポリシラザンと、を含有することを特徴とする。【選択図】なし
机译:解决的问题:在低氧低湿度的系统中,用聚硅氮烷连续直接密封的过程中,提供一种具有高抗氧化性和干燥剂功能的密封膜。本发明的目的是提供一种能够形成和抑制有机EL元件的黑斑的涂布液,使用该涂布液的喷墨用墨,密封膜以及密封膜的形成方法。本发明的涂布液是含有聚硅氮烷的涂布液,并且将氧原子引入到聚硅氮烷和一部分聚硅氮烷中,以及相对于硅(Si)原子的氧(O)原子。其特征在于包含组成比值(O / Si)在0.01至1范围内的聚硅氮烷氧化物。[选择图]无

著录项

  • 公开/公告号JP2019036517A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KONICA MINOLTA INC;

    申请/专利号JP20170238206

  • 发明设计人 竹村 千代子;

    申请日2017-12-13

  • 分类号H05B33/10;H01L51/50;H05B33/04;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:19:59

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