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樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

机译：树脂的制造方法，抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案

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【課題】優れたラインエッジラフネスでレジストパターン製造可能な樹脂及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）、式（ａ１－１）、及び式（ａ１－２）で表される構造単位を含む樹脂。［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ｘ^１は単結合又は－ＣＯ－Ｏ－＊（＊は、Ａｒとの結合位。）；Ａｒはフッ素原子を有する２価の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は水素原子又は酸不安定基を表す。Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、独立に－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｋ１－ＣＯ－Ｏ－、ｋ１は１～７の整数；Ｒ^ａ４及びＲ^ａ５は独立に水素原子又はメチル基；Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７は独立にアルキル基、脂環式炭化水素基等を表す。］【選択図】なし

机译：解决的问题：提供能够产生线边缘粗糙度优异的抗蚀剂图案的树脂和抗蚀剂组合物。含有由式（I），式（a1-1）和式（a1-2）表示的结构单元的树脂。<图像文件=“ 2019035071_000160.GIF”他=“ 42” id =“ imag000160” imgContent =“绘图” imgFormat =“ GIF” wi =“ 142” />[式中，R ^{1 为氢原子或甲基; X ^{1 为单键或-CO-O- *（*为与Ar的键位置。） Ar表示具有氟原子的二价的芳香族烃基。 R ^{2 表示氢原子或酸不稳定基团。 L ^{a1 和L ^{a2 独立地是-O-或* -O-（CH _{2 ）_{k1 -CO-O-，k1为1到7的整数; R ^{a4 和R ^{a5 独立地是氢原子或甲基; R ^{a6 并且R ^{a7 独立地表示烷基，脂环族烃基等。 ][选择图]无}}}}}}}}}}}

著录项

公开/公告号JP2019035071A

专利类型
公开/公告日2019-03-07

原文格式PDF
申请/专利权人 SUMITOMO CHEMICAL CO LTD;
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申请/专利号JP20180145913
发明设计人市川幸司;増山達郎;中村広夢;
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申请日2018-08-02
分类号C08F212/14;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:20:19

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