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Test structures and metrology technique utilizing the test structures for measuring in patterned structures

机译：利用测试结构在图案化结构中进行测量的测试结构和计量技术

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摘要

An article is presented configured for controlling a multiple patterning process, such as a spacer self-aligned multiple patterning, to produce a target pattern. The article comprises a test site carrying a test structure comprising at least one pair of gratings, wherein first and second gratings of the pair are in the form of first and second patterns of alternating features and spaces and differ from the target pattern by respectively different first and second values which are selected to provide together a total difference such that a differential optical response from the test structure is indicative of a pitch walking effect.

机译：提出了一种物品，其被配置用于控制多重图案化工艺，例如间隔件自对准多重图案化，以产生目标图案。该制品包括带有测试结构的测试部位，该测试结构包括至少一对光栅，其中该对光栅中的第一和第二光栅为特征和空间交替的第一和第二图案的形式，并且分别与目标图案不同，即第一和第二光栅不同选择第二和第二值以共同提供总差，以使得来自测试结构的不同光学响应指示音高步进效应。

著录项

公开/公告号US10066936B2

专利类型
公开/公告日2018-09-04

原文格式PDF
申请/专利权人 NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.;
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申请/专利号US201515124445
发明设计人 IGOR TUROVETS;
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申请日2015-03-10
分类号G01B11/02;G01B11/27;H01L21/66;G01N21/47;G01N21/956;G01N21/95;H01L21/033;
国家 US
入库时间 2022-08-21 13:02:07

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