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EXPOSURE APPARATUS, STAGE CALIBRATION SYSTEM, STAGE CALIBRATION METHOD AND CALIBRATION JIG

机译:曝光装置,阶段校准系统,阶段校准方法和校准夹具

摘要

The present invention relates to an exposure apparatus to calibrate operation precision of a stage by using reference plates which are smaller than a stage operation area. The exposure apparatus has a calibration unit which prepares transfer precision calibration information of a transfer stage using reference plates. The calibration unit prepares the first calibration information using a reference plate stacked on a first measuring area of the transfer stage, and prepares the second calibration information using a reference plate stacked on at least one second measuring area having an overlapping area with the first measuring area.;COPYRIGHT KIPO 2017
机译:曝光装置技术领域本发明涉及一种通过使用小于载物台操作区域的基准板来校准载物台的操作精度的曝光装置。曝光设备具有校准单元,该校准单元使用参考板准备转印台的转印精度校准信息。校准单元使用堆叠在转印台的第一测量区域上的参考板来准备第一校准信息,并且使用堆叠在具有与第一测量区域重叠的至少一个第二测量区域上的参考板来准备第二校准信息。 。; COPYRIGHT KIPO 2017

著录项

  • 公开/公告号KR20170113265A

    专利类型

  • 公开/公告日2017-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ORC MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号KR20170038209

  • 发明设计人 YAMABE KOHEIJP;NAKAZAWA AKIRAJP;

    申请日2017-03-27

  • 分类号G03F7/20;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 13:26:28

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