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Vertical Schottky barrier diode and method of manufacturing vertical Schottky barrier diode

机译:垂直肖特基势垒二极管及其制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique that improves a problem that a first electrode layer is easily separated from an insulation layer.SOLUTION: The semiconductor device comprises: a semiconductor layer formed of a semiconductor; an insulation layer having electrical insulation properties and covering a part of the semiconductor layer; a first electrode layer formed on the semiconductor layer, having work function of 0.5 eV or more of the electron affinity of the semiconductor layer, and forming a field plate region by extending to a surface of the insulation layer; and a second electrode layer covering the first electrode layer and covering a part of the insulation layer.
机译:解决的问题:提供一种改善第一电极层容易与绝缘层分离的问题的技术。解决方案:半导体器件包括:由半导体形成的半导体层;以及由半导体形成的半导体层。具有电绝缘特性并且覆盖半导体层的一部分的绝缘层;第一电极层,形成在半导体层上,具有半导体层的电子亲和力的0.5eV以上的功函数,并通过延伸至绝缘层的表面而形成场板区域;第二电极层覆盖第一电极层并覆盖绝缘层的一部分。

著录项

  • 公开/公告号JP6179445B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 豊田合成株式会社;

    申请/专利号JP20140082145

  • 发明设计人 田中 成明;岡 徹;長谷川 一也;

    申请日2014-04-11

  • 分类号H01L29/41;H01L29/872;H01L29/47;H01L21/329;H01L29/06;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:56:58

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