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Recycle photochemical to reduce cost of material and environmental impact

机译：回收光化学物质以降低材料成本和环境影响

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摘要

This invention discloses an apparatus for coating a semiconductor wafer in a coating chamber comprising a platform for placing the semiconductor wafer thereon. The apparatus further includes a catch and recycle (C&R) apparatus comprises a rim/ring controllable to move below and surround the platform for receiving and catching a coating material spurned off in coating the semiconductor wafer.

机译：本发明公开了一种用于在涂覆室中涂覆半导体晶片的设备，该设备包括用于将半导体晶片放置在其上的平台。该设备还包括捕集和回收（C＆R）设备，该设备包括边缘/环，该边缘/环可控制为在平台下方移动并围绕平台，以接收和捕获在涂覆半导体晶片时喷出的涂料。

著录项

公开/公告号US9421567B2

专利类型
公开/公告日2016-08-23

原文格式PDF
申请/专利权人 WINSTON WU;YIMING GU;
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申请/专利号US201414480080
发明设计人 WINSTON WU;YIMING GU;
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申请日2014-09-08
分类号B05B15/04;H01L21/02;H01L21/027;
国家 US
入库时间 2022-08-21 14:31:32

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