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DESIGN RULE GENERATING APPARATUS AND METHOD USING LITHOGRAPHY SIMULATION

机译:设计规则生成装置和使用光刻技术的方法

摘要

Provided are a design rule generating apparatus and method using a lithography simulation. The design rule generating method includes the steps of: receiving a test pattern; providing a plurality of work flows which correspond to the test pattern and are previously set with regard to a method for generating a mask and a lithography model; and simulating the test pattern according to the work flow selected among the work flows.
机译:提供一种使用光刻模拟的设计规则生成装置和方法。设计规则生成方法包括以下步骤:接收测试图案;以及提供多个与测试图案相对应的工作流程,这些工作流程是针对生成掩模和光刻模型的方法预先设置的;根据工作流程中选择的工作流程对测试图案进行仿真。

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