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SOI bipolar junction transistor with substrate bias voltages

机译:具有衬底偏置电压的SOI双极结型晶体管

摘要

A circuit configuration and methods for controlling parameters of a bipolar junction transistor (BJT) fabricated on a substrate. A bias voltage is electrically coupled to the substrate and can be adjusted to alter the working parameters of a target BJT.
机译:用于控制在基板上制造的双极结型晶体管(BJT)的参数的电路配置和方法。偏置电压电耦合到衬底,并且可以被调节以改变目标BJT的工作参数。

著录项

  • 公开/公告号US8927380B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-01-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JIN CAI;TAK H. NING;

    申请/专利号US201213369261

  • 发明设计人 JIN CAI;TAK H. NING;

    申请日2012-02-08

  • 分类号H01L21/331;H01L21/8222;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:16:43

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