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GaN vertical bipolar transistor

机译:Gan vertical bipolar transistor

摘要

An embodiment of a semiconductor device includes a III-nitride base structure of a first conductivity type, and a III-nitride emitter structure of a second conductivity type having a first surface and a second surface. The second surface is substantially opposite the first surface. The first surface of the III-nitride emitter structure is coupled to a surface of the III-nitride base structure. The semiconductor also includes a first dielectric layer coupled to the second surface of the III-nitride emitter structure, and a spacer coupled to a sidewall of the III-nitride emitter structure and the surface of the III-nitride base structure. The semiconductor also includes a base contact structure with a III-nitride material coupled to the spacer, the surface of the III-nitride base structure, and the first dielectric layer, such that the first dielectric layer and the spacer are disposed between the base contact structure and the III-nitride emitter structure.
机译:半导体装置的实施例包括具有第一表面和第二表面的第一导电类型的III族氮化物基极结构和具有第二导电类型的III族氮化物发射极结构。第二表面基本上与第一表面相对。 III族氮化物发射极结构的第一表面耦合至III族氮化物基础结构的表面。半导体还包括耦合到III族氮化物发射极结构的第二表面的第一介电层,以及耦合到III族氮化物发射极结构的侧壁和III族氮化物基极结构的表面的间隔物。半导体还包括基极接触结构,该基极接触结构具有耦合至间隔物的III族氮化物材料,III族氮化物基础结构的表面和第一介电层,使得第一介电层和间隔物被设置在基极接触之间。结构和III族氮化物发射极结构。

著录项

  • 公开/公告号US8823140B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AVOGY INC.;

    申请/专利号US201213675916

  • 申请日2012-11-13

  • 分类号H01L29/66;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:02:57

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