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NOVEL CRYSTAL FORM OF PHTHALOYL AMLODIPINE AND PROCESS FOR PRODUCING HIGH-PURITY PHTHALOYL AMLODIPINE BESILATE USING THE SAME

机译:新型邻苯二甲酰基吗啡的结晶形式和使用相同方法生产高纯度邻苯二甲酰基吗啡的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing high-purity phthaloyl amlodipine for synthesis of an amlodipine besilate having excellent purity as a medicine.;SOLUTION: Provided are TW-A type and TW-B type crystal forms of highly pure phthaloyl amlodipine. In powder X-ray diffraction, the TW-A type phthaloyl amlodipine has diffraction peaks at 2θ(°)=8.7±0.2, 11.0±0.2, 13.4±0.2, 15.7±0.2, and 24.6±0.2. In powder X-ray diffraction, the TW-B type phthaloyl amlodipine has diffraction peaks at 2θ(°)=6.6±0.2, 9.9±0.2, 11.1±0.2, 17.3±0.2, and 24.4±0.2.;COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种高纯度的邻苯二甲酰基氨氯地平的生产方法,该方法用于合成纯度优异的苯磺酸氨氯地平。;解决方案:提供高纯度的邻苯二甲酰基氨氯地平的TW-A型和TW-B型晶型。 。在粉末X射线衍射中,TW-A型邻苯二甲酰基氨氯地平在2θ(°)= 8.7±0.2、11.0±0.2、13.4±0.2、15.7±0.2和24.6±0.2处具有衍射峰。在粉末X射线衍射中,TW-B型邻苯二甲酰基氨氯地平在2θ(°)= 6.6±0.2、9.9±0.2、11.1±0.2、17.3±0.2和24.4±0.2。处具有衍射峰;版权:(C) 2014年,日本特许厅&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2014144919A

    专利类型

  • 公开/公告日2014-08-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOWA YAKUHIN KK;

    申请/专利号JP20130012660

  • 发明设计人 TANIMOTO NORIAKI;HIRATA MAKOTO;

    申请日2013-01-25

  • 分类号C07D401/12;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:19:42

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