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APPARATUS FOR DEPOSITING THE CHEMICAL VAPOR OF METAL ORGANIC MATTERS CAPABLE OF EFFECTIVELY DISSOLVING HARMFUL GAS

机译：用于沉积可有效溶解有害气体的金属有机物化学蒸气的装置

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PURPOSE: An apparatus for depositing the chemical vapor of metal organic matters is provided to prevent harmful gas discharged after a deposition process from being discharged to the atmosphere.;CONSTITUTION: An apparatus for depositing the chemical vapor of metal organic matters comprises a process chamber(110), a susceptor(130), a shower head(120), and a gas purifying part. The susceptor is positioned inside the process chamber. A substrate is placed on the susceptor. The shower head is positioned in the opposite side of the susceptor to diffuse process gas toward the substrate. The gas purifying part purifies discharge gas with plasma.;COPYRIGHT KIPO 2013

机译：用途：提供一种沉积金属有机物化学蒸气的装置，以防止沉积过程后排放的有害气体排放到大气中。;组成：一种沉积金属有机物化学蒸气的装置包括一个处理室（ 110），基座（130），喷头（120）和气体净化部分。基座位于处理室内。将基板放置在基座上。喷头位于基座的相反侧，以向基板扩散工艺气体。气体净化部分用等离子体净化排放气体。; COPYRIGHT KIPO 2013

著录项

公开/公告号KR20130050759A

专利类型
公开/公告日2013-05-16

原文格式PDF
申请/专利权人 LIGADP CO. LTD.;
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申请/专利号KR20110115988
发明设计人 LEE JAE MOO;LEE CHANG YEOB;
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申请日2011-11-08
分类号C23C16/50;C23C16/44;H01L21/205;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 16:27:11

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