首页> 外国专利> method of obtaining u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du043eu0439 u043eu043au0441u0438u0434u043du043eu0439 film u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du0430u044f u043eu043au0441u0438u0434u043du0430u044f film and its application

method of obtaining u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du043eu0439 u043eu043au0441u0438u0434u043du043eu0439 film u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du0430u044f u043eu043au0441u0438u0434u043du0430u044f film and its application

机译:u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u043d u043d u043e u0439 u043e u043e u043a u043a u0441 u0438 u0434 u043d u043e u0439胶片 u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043d u043e u0432 u043e u0434 u043d u04d u0430 u044f u043e u043e u043a u0441 u0438 u0434 u043d u043d u0430电影及其应用

摘要

method of obtaining u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du043eu0439 u043eu043au0441u0438u0434u043du043eu0439 film (1) for the product (2), comprising a stage for the substrate (2) in the reactionary spacepre deposition layer on the surface of the besieged education substrate (2) and the surface deposition of a chemical compound.stage of education pre beleaguered layer surface deposition of the substrate (2) includes a first layer of oxide u043fu0435u0440u0435u0445u043e besieged education u0434u043du043eu0433u043e metal surface deposition andafter the purging process reaction space.stage of surface deposition of chemical compound includes the processing of the surface deposition of u043cu0435u0442u0430u043bu043bu043eu0440u0433u0430u043du0438u0447u0435u0441u043au0438u043c chemical compound and the subsequent ol u043eu0434u0443u0432u043au0443 reaction space for imageu043eu0432u0430u043du0438u044f oxide comprising oxygen, a first metal and a transition metal.at this stage of education pre beleaguered layer and surface deposition of alternately repeating thusthe product (2) is formed u044du043bu0435u043au0442u0440u043eu043fu0440u043eu0432u043eu0434u043du0430u044f u043eu043au0441u0438u0434u043du0430u044f film (1).
机译:u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u043d u043d u043e u0439 u043e u043e u043a u043a u0441 u0438 u0434 u043d u043e u0439产品(2)的薄膜(1),包括在被包围的教育底物(2)表面上的反应空间预沉积层中的底物(2)和化合物表面沉积的平台。基板的预腐蚀层表面沉积(2)包括第一层氧化物 u043f u0435 u0440 u0435 u0445 u043e被围困的金属表面沉积和吹扫过程后的反应空间。化合物的表面沉积阶段包括 u043c u0435 u0442 u0430 u043b u043b u043b u043e u0440 u0433 u0430 u043d u0438 u0447 u0435 u0435 u0441 u0431 u043a u0438 u043c化学化合物以及随后的图像 u043e u0434 u0443 u0432 u043a u0443反应空间 u043e u0432 u0430 u043d u0438 u 044f包含氧,第一金属和过渡金属的氧化物。在该阶段的教育中,预腐蚀层和表面沉积交替重复进行,因此形成了产物(2) u044d u043b u0435 u043a u0442 u0440 u043e u043f u0440 u043e u0432 u043e u0434 u043d u0430 u044f u043e u043a u0441 u0438 u0434 u043d u0430 u044f胶片(1)。

著录项

  • 公开/公告号EA201290268A1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 БЕНЕК ОЙ;

    申请/专利号EA20120090268

  • 发明设计人 ЯРМО;

    申请日2010-11-02

  • 分类号C23C16/08;C23C16/18;C23C16/40;C23C28;C23C30;C23C16/455;C23C16/44;

  • 国家 EA

  • 入库时间 2022-08-21 16:41:50

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号