机译:反射率变化型传感器,光学式测量设备,反射率变化型传感器的生产方式在生产上均匀的基板,自组织颗粒单层膜,自组织颗粒单层膜和这些单层膜上层膜
公开/公告号JP5167486B2
专利类型
公开/公告日2013-03-21
原文格式PDF
申请/专利权人 国立大学法人東京農工大学;
申请/专利号JP20070520111
申请日2006-06-06
分类号G01N21/27;G01N21/47;G01N25/68;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:55:14