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Ething nozzle device and ething apparatus using the same

机译:吸嘴装置和使用该吸嘴装置的放气装置

摘要

PURPOSE: An etching nozzle device and an etching device using the same are provided to control the spray uniformity and spray pressure of an etching nozzle by vertically or horizontally moving the etching nozzle on both surfaces of an erected substrate. CONSTITUTION: A nozzle frame(10) is formed along the vertical direction of a substrate(5). A hole(11) is formed on both ends of the nozzle frame. A connection frame(20) is combined with the upper and lower ends of the nozzle frame. A fixed frame(30) is combined with both ends of the connection frame. An etching nozzle(40) is installed on the nozzle frame to move up and down.
机译:目的:提供一种蚀刻喷嘴装置和使用该蚀刻喷嘴装置的蚀刻装置,以通过在竖立的基板的两个表面上垂直或水平移动蚀刻喷嘴来控制蚀刻喷嘴的喷雾均匀性和喷雾压力。组成:喷嘴框架(10)沿基板(5)的垂直方向形成。在喷嘴框架的两端形成有孔(11)。连接框架(20)与喷嘴框架的上端和下端结合。固定框架(30)与连接框架的两端结合。蚀刻喷嘴(40)安装在喷嘴框架上以上下移动。

著录项

  • 公开/公告号KR101113409B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-02-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20090107985

  • 申请日2009-11-10

  • 分类号H01L21/306;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:08:36

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