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The pattern generator which uses method and its method of generating 2 level pattern for lithography graph manipulation

机译:使用该方法的图案生成器及其生成用于光刻图形操作的2级图案的方法

摘要

This invention regards the method of generating 2 level pattern for the lithography graph manipulation with multi bimuretsuto. With this method, it can give the 1st pattern of the vector format. Vector format pattern after that is converted to the pattern of the pixel map format. Finally, 2 level pattern is formed with pixel map format pattern by the application of error spread. Selective figure Figure 7
机译:本发明涉及一种用于利用多bimuretsuto进行光刻图操作的生成2级图案的方法。使用这种方法,可以给出矢量格式的第一种模式。之后,矢量格式模式将转换为像素图格式的模式。最后,通过误差扩散,利用像素图格式图案形成2级图案。<选择图>图7

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